Connect with us

News

Bahlil Lahadalia Senggol Tom Lembong: Lulusan STIE vs. Harvard, Siapa yang Sukses Mencapai Target Investasi?

Aam Imanullah

Published

on

Monitorday.com, Menteri Investasi/Kepala Badan Koordinasi Penanaman Modal (BKPM), Bahlil Lahadalia, memberikan sindiran terhadap pendahulunya, Thomas Trikasih Lembong, yang merupakan lulusan Harvard University. Meski tanpa menyebut nama langsung, Bahlil membandingkan prestasinya dengan mencapai target investasi yang ditetapkan Presiden Joko Widodo.

Dalam konferensi pers kinerja investasi tahun 2023, Bahlil menyatakan, “Ini perbandingan antara pejabat terdahulu yang tamatan Harvard yang sekolahnya hebat, dan pejabat sekarang yang lulusan STIE Port Numbay, alumni Jayapura.” Ia menambahkan bahwa meskipun lulus dari STIE Port Numbay, dirinya berhasil mencapai target investasi yang dicanangkan.

Bahlil juga menyinggung kinerja Tom Lembong, menudingnya meninggalkan investasi mangkrak senilai Rp 708 triliun. Bahlil mengklaim berhasil mengeksekusi investasi tersebut sebesar Rp 558 triliun, termasuk investasi Lotte Chemical Rp 60 triliun dan PLTS Terapung Cirata.

“Ilmu lapangan untuk menyelesaikan masalah itu tidak ada di Harvard University. Apalagi menyelesaikan masalah-masalah pemain lapangan kan. Bahasa saya seperti hantu, yang bisa menyelesaikan masalah hantu ya yang pernah menjadi hantu atau bergaul dengan hantu,” ungkap Bahlil.

Bahlil juga mengungkit bahwa Tom Lembong pernah gagal mencapai target investasi pada tahun 2018, hanya berhasil merealisasikan Rp 721,30 triliun dari target Rp 765 triliun. Sebagai kontrast, Bahlil meraih kesuksesan dalam merealisasikan target investasi sebesar Rp 826 triliun pada tahun 2019, meskipun Indonesia tengah menghadapi tantangan pandemi Covid-19.

Konferensi pers tersebut menjadi panggung perbandingan antara lulusan STIE dan Harvard, dengan Bahlil meyakinkan bahwa keberhasilan tidak selalu tergantung pada asal perguruan tinggi, tetapi pada kinerja dan pengalaman lapangan.

Continue Reading
Advertisement
Click to comment

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *